Opis
Garnier Czysta Skóra oczyszczająca maska na tkaninie przeciw niedoskonałościom z kwasem salicylowym 23g (P2)
Pierwsza oczyszczająca maska na tkanie przeciw niedoskonałościom od Garnier Czysta Skóra, by skutecznie zwalczać niedoskonałości i rozszerzone pory już po pierwszym stosowaniu! Wegańska tkanina maski pochodzenia roślinnego nasączona została skoncentrowaną formułą, wzbogaconą w olejek z drzewa herbacianego i kwas salicylowy, by dokładnie oczyszczać, zmniejszać pory i zmatowić skórę*, jednocześnie gwarantując jej widoczne wygładzenie i ukojenie już od pierwszego użycia. Dzięki składnikom o właściwościach antybakteryjnych i przeciwzapalnych, maska doskonale sprawdzi się dla skóry tłustej i z niedoskonałościami. Produkt został przetestowany dermatologicznie, a skuteczność jego działania potwierdzona klinicznie.
*Test konsumencki – 55 kobiet po jednym użyciu
Jak stosować?
1. Rozłóż maskę. Delikatnie nałóż ją na oczyszczoną skórę twarzy. Dopasuj do twarzy.
2. Pozostaw na 15 minut, następnie zdejmij maskę.
3. Wmasuj pozostałości formuły w skórę twarzy, dekoltu lub usuń ją za pomocą wacika.
AQUA / WATER • GLYCERIN • NIACINAMIDE • SALICYLIC ACID • GLYCERYL ISOSTEARATE • HYDROXYACETOPHENONE • DICAPRYLYL CARBONATE • POTASSIUM HYDROXIDE • CETYL ALCOHOL • HEXYLDECANOL • PEG-100 STEARATE • GLYCERYL STEARATE • AMMONIUM POLYACRYLOYLDIMETHYL TAURATE • XANTHAN GUM • CITRIC ACID • OCTYLDODECANOL • STEARIC ACID • PALMITIC ACID • SODIUM HYALURONATE • PARFUM / FRAGRANCE • CAPRYLOYL SALICYLIC ACID • MYRISTIC ACID • BENZYL SALICYLATE • LIMONENE • MELALEUCA ALTERNIFOLIA LEAF EXTRACT / TEA TREE LEAF EXTRACT • TOCOPHEROL • EUCALYPTUS GLOBULUS LEAF EXTRACT (F.I.L. C265534/2).
